Zwiększ wydajność swojego procesu dzięki kompletnym rozwiązaniom dla zaawansowanej produkcji półprzewodników
W przemyśle półprzewodników, mikro zanieczyszczenia mogą stwarzać poważne problemy. Camfil w celu zatrzymania najmniejszych cząstek i osiągnięcia wysokiej czystości pomieszczeń wg ISO klasa 1, oferuje szeroką gamę produktów od filtracji wstępnej, po filtrację dokładną, HEPA i ULPA, a nawet filtrację molekularną.
Zanieczyszczenia molekularne przenoszone drogą powietrzną (AMC) stanowią szczególne wyzwanie w produkcji półprzewodników. Niepożądane reakcje chemiczne kwasów, zasad, substancji organicznych, materiałów ogniotrwałych i domieszek mogą mieć wpływ na powierzchnie płytek i optykę urządzeń procesowych, powodując wady podczas produkcji układów scalonych oraz zmniejszoną wydajność urządzeń i narzędzi.
Kontrola zanieczyszczeń gazowych staje się coraz ważniejsza w krytycznych procesach produkcyjnych w pomieszczeniach czystych. W miarę jak parametry stają się coraz bardziej wymagające, a rozmiary urządzeń kurczą się, sterowanie procesem odbywa się pod ogromną presją. Płytki półprzewodników mogą spędzić nawet cały miesiąc w fabryce, przechodząc setki procesów zanim zostaną wysłane w produkcie końcowym. Każde niewielkie potencjalne zanieczyszczenie w tym łańcuchu produkcyjnym może mieć poważne konsekwencje dla ogólnej wydajności zakładu.
Rozwiązania Camfil zapewniają sprawdzoną w praktyce i w laboratorium ochronę w środowiskach produkcji półprzewodników, w tym litografii, wytrawiania, dyfuzji, metalizacji, cienkich folii, implantacji jonów oraz narzędzi inspekcyjnych.
Rodzina filtrów wstępnych firmy Camfil zapewnia najniższe zużycie energii w centralach wentylacyjnych chroniąc wysoko skuteczne filtry HEPA przed zbyt szybkim zapchaniem. Filtry absolutne Camfil zostały zaprojektowane tak, aby uwalniać jak najmniej zanieczyszczeń organicznych, które mogłyby przedostać się do procesu (tzw. low outgassing - filtry niskoemisyjne). Filtry motnowane w systemach wywienych chronią środowisko przed zanieczyszczeniami procesowymi.
Chroni środowisko i ludzi przed niebezpiecznymi, cząstkami uwalnianymi przez procesy przemysłowe, a także przestrzega lokalne przepisy związane z dopuszczalnymi poziomami zanieczyszczeń i obniża koszty operacyjne systemu filtracji powietrza.
Sufity do pomieszczeń czystych są zaprojektowane tak, aby zapewnić wysoki poziom ochrony przed substancjami w fazie gazowej i bardzo małymi nanocząstkami. W zależności od projektu pomieszczenia, z sufitu strumień powietrza może mieć charakter wypływu turbulentny lub laminarny.
Centrale wentylacyjne dostarczają świeże, przefiltrowane powietrze atmosferyczne do procesów produkcyjnych i są ważną częścią każdego obiektu. Tworzą nadciśnienie w pomieszczeniach i kompensują ilość powietrza wywiewanego. W celu przygotowania powietrza wymagane są odpowiednie filtry, które oczyszczają powietrze z niebezpiecznych cząstek chroniąc poszczególne elementy systemu wentylacyjnego, ludzi, procesy i produkty.
Procesy mikroelektroniczne w pomieszczeniach czystych wymagają ochrony przed najmniejszymi cząstkami i zanieczyszczeniami gazowymi - molekularnymi. Procesy te obejmują litografię, powlekanie, wytrawianie, dyfuzję, metalizację, technikę cienkowarstwową, implantację jonów, detektory cząstek i wiele innych.
System recyrkulacji stosowany jest w celu zapewnienia czystego powietrza, wstępnie ogrzanego/schłodzonego i jako uzupełnienie systemów nawiewnych. Powietrze recyrkulowane wymaga filtracji w celu ochrony ludzi, procesów i produktów.
Polska